靶材的制作方法及分類應用

靶材是在電子信息行業中經常使用到的一種材料，雖然它的用途廣泛，但尋常大眾對于這種材料都了解不深，許多人都很好奇靶材的制作方法是什么？它又是怎樣分類的？下面四豐小編就給大家介紹下靶材的制作方法及分類應用

　　一、靶材的制作方法

　　1、鑄造法

　　鑄造法是將一定成分配比的合金原料給熔煉起來，之后再將熔煉后得到的合金溶液澆到模具中，形成鑄錠，再經過機械加工后就形成了靶材。鑄造法一般需要在真空中熔煉鑄造，常見的鑄造方法有這幾種：真空感應熔煉、真空電弧熔煉以及真空電子轟擊熔煉，它的優點是制取的靶材雜質含量小，密度較高，能夠大型化制作；缺點是如果是熔煉熔點和密度差別較大的兩種及以上的金屬時，常規的熔煉法很難制成成分均勻的合金靶材。

　　2、粉末冶金法

　　粉末冶金法是將一定成分配比的合金原料熔煉，之后再將熔煉后得到的合金溶液澆鑄成鑄錠，把澆成的鑄錠粉碎，將粉碎后的粉末靜壓成型，然后高溫燒結形成靶材。這樣做成的靶材優點是成分均勻；缺點是密度低，雜質含量較高。經常用到的粉末冶金工業有冷壓、真空熱壓以及熱等靜壓這幾種。

　　二、靶材的分類應用

　　1、半導體關聯靶材：

　　電極、布線薄膜：鋁靶材，銅靶材，金靶材，銀靶材，鈀靶材，鉑靶材等。

　　儲存器電極薄膜：鉬靶材，鎢靶材，鈦靶材等。

　　粘附薄膜：鎢靶材，鈦靶材等。

　　電容器絕緣膜薄膜：鋯鈦酸鉛靶材等。

　　2、磁記錄靶材：

　　垂直磁記錄薄膜：鈷鉻合金靶材等。

　　硬盤用薄膜：鈷鉻鉭合金靶材，鈷鉻鉭鉑合金靶材等。

　　薄膜磁頭：鈷鉭鉻合金靶材，鈷鉻鋯合金靶材等。

　　人工晶體薄膜：鈷鉑合金靶材，鈷鈀合金靶材等。

　　3、光記錄靶材：

　　相變光盤記錄薄膜：硒化碲靶材，硒化銻靶材，鍺銻碲合金靶材，鍺碲合金靶材等。

　　磁光盤記錄薄膜：鏑鐵鈷合金靶材，鋱鏑鐵合金靶材，氧化鎂靶材，氮化硅靶材等。

　　光盤反射薄膜：鋁靶材，鋁鈦合金靶材，鋁鉻合金靶材，金靶材，金合金靶材等。

　　光盤保護薄膜：氮化硅靶材，氧化硅靶材，硫化鋅靶材等。

　　以上就是四豐小編對靶材的制作方法及分類應用的全部介紹，靶材經常用于電子信息領域，比如用于顯示器中，微電子中，或存儲技術上，如果您還想了解更多有關靶材的資訊，可以向洛陽高新四豐電子材料有限公司留言咨詢。